یونیزاسیون ترمال بریک و آلومینیوم

۱۵ بازديد
الگوهای پراش اشعه ایکس پوشش‎های اکسیداسیون ریز جرقه‎ای تشکیل شده در ولتاژهای اعمالی مختلف در شکل ۱-۱۵ آمده است. در ۲۰۰ ولت، پیک¬های پراش آناتاز، بسیار ضعیف هستند. با افزایش ولتاژ اعمالی، به واسطه اکسیداسیون بیشتر، پیک¬های آناتاز قوی¬تر می‎شوند. تحقیقات قبلی نیز نشان می‎دهند که افزایش ولتاژ اعمالی می‎تواند منجر به افزایش تشکیل ترکیبات بلوری مختلف شود. علاوه بر ولتاژ اعمالی، ترکیب الکترولیت نیز عاملی موثر بر ساختار بلوری این پوشش‎ها می‎باشد. گزارش شده است که افزودن EDTA سدیم به الکترولیت می‎تواند باعث افزایش تشکیل فاز آمورف شامل عناصر مختلف موجود در الکترولیت شود. همچنین در طول عملیات اکسیداسیون قوس در سطوح الکترود، یک واکنش‎های شیمیایی و فیزیکی پلاسمایی پیچیده (مانند یونیزاسیون و تغلیظ پلاسما) رخ داده و در فرایند یونیزاسیون، یک اثر حرارتی قابل توجه ایجاد می‎شود. در همان زمان، محصولات به سرعت سرد می‎شوند ، و غالبا باعث تشکیل فاز آمورف می‎گردند.
مورفولوژی سطح و ترکیب عنصری
 این پوشش‎ها، در اثر ایجاد جرقه‎ها در طی عملیات پوشش دهی، ساختاری متخلخل دارند. مشاهده می‎شود که با افزایش ولتاژ اعمالی، تعداد ریز تخلخل¬ها کاهش یافته، در حالی که اندازه آنها افزایش می‎یاید. نتایج نشان می‎دهند که ولتاژ اعمالی، اثر قابل توجهی روی مورفولوژی سطح پوشش‎های تشکیل شده در الکترولیت تحقیق حاضر دارند. در مرجع نیز نتایج مشابهی در سطوح پوشش‎های حاوی کلسیم و فسفر مشاهده شد. نتایج آزمون طیف سنجی تفرق انرژی اشعه ایکس نشان دادند که سیلیسیم و کلسیم، با موفقیت وارد پوشش‎های اکسیداسیون ریزحرفه‎ای شدند. غلظت¬های اتمی سیلیسیم، کلسیم و سدیم در ۴۰۰ و ۴۵۰ ولت، به ۱۳٫۳%، 3/7 % و 4/4 % می‎رسید. با افزایش ولتاژ اعمالی، غلظت سیلیسیم و کلسیم در پوشش به وضوح زیاد می‎شود، اما غلظت تیتانیم کاهش قابل توجهی پیدا می‎کند.
۰ ۰
تا كنون نظري ثبت نشده است
ارسال نظر آزاد است، اما اگر قبلا در فارسی بلاگ ثبت نام کرده اید می توانید ابتدا وارد شوید.